CMP Fluid Handling Challenges в полупроводниковом производстве

Химическая механическая планаризация (CMP) является одним из наиболее важных процессов в современном производстве полупроводников.

Во время обработки CMP полирующая суспензия непрерывно доставляется на поверхность пластины для достижения:

• Нанометровая плоскость поверхности
• Скорость удаления контролируемых материалов
• Повышение урожайности пластин
• Стабильная производительность процесса

Система доставки суспензии напрямую влияет на качество процесса CMP.

Любой источник загрязнения из компонентов, контактирующих с жидкостью, может влиять на:

• дефекты поверхности вафера
• Генерация частиц
• Загрязнение ионами металлов
• Согласованность процессов
• надежность устройства

Поэтому производителям полупроводникового оборудования требуются компоненты для управления жидкостью высокой чистоты с отличной химической совместимостью.

Справочная информация о клиенте

Профиль клиента

Клиент специализируется на:

• Полупроводниковое полировочное оборудование CMP
• Комплексные решения CMP
• Системы планаризации поверхности вафера

Их оборудование используется во время процессов производства чипов, где необходима точная доставка суспензии.

Применение

CMP полировка суспензии транспортной системы

средний

Химическая полировка суспензии

Основные требования

Клиенту требовались компоненты для обработки жидкости с:

Низкие металлические ионные осадки

Материал должен минимизировать:

• Металлическое загрязнение
• Ионический выпуск
• Химические примеси

Химическая устойчивость

Суспензия CMP может содержать:

• Абразивные частицы
• Окислители
• Химические добавки

Смачиваемый материал должен сохранять стабильность при длительном контакте.

Высокое качество Purity Performance

Система требует:

• Низкий уровень добычи
• Путь чистой жидкости
• Стабильные свойства материала

Инженерная оценка

Почему выбор материала имеет решающее значение в CMP-системах

Традиционные металлические компоненты могут представлять опасность загрязнения из-за:

• Выпуск металлических ионов
• Коррозия
• Взаимодействие поверхности с химическими веществами

Для передового производства полупроводников даже следовое загрязнение может повлиять на качество пластин.

Поэтому фторполимерные материалы широко рассматриваются для систем химической доставки высокой чистоты.

Рекомендуемое решение

CJAN High Purity PFA Система обработки жидкостей

Исходя из требований заявки, CJAN рекомендует:

Высокая чистота PFA Plug Valve

Продукт:

0

В сочетании с:

• Высокочистая трубка PFA
• Фурнитура PFA
• Фторпластичные компоненты жидкости

Почему выбирают компоненты PFA для приложений CMP?

1 Отличная химическая устойчивость

PFA обеспечивает выдающуюся устойчивость ко многим агрессивным химическим веществам.

Преимущества:

• Стабильные химические характеристики
• Снижение риска коррозии
• Долгий срок службы
• Подходит для требовательных полупроводниковых сред

2 Низкий риск загрязнения металлическими ионами

По сравнению с компонентами металлической жидкости ПФА минимизирует потенциальные источники загрязнения.

Преимущества:

• Сокращение высвобождения ионов металла
• Улучшенная чистота суспензии
• Повышение согласованности процессов

3 Путь жидкости высокой чистоты

Полупроводниковые процессы требуют чистой подачи жидкости.

Компоненты PFA обеспечивают:

• Гладкие внутренние поверхности
• Низкая генерация частиц
• Отличная чистота
• Стабильная производительность контакта с жидкостью

4 Надежный контроль клапанов

PFA Plug Valve предоставляет:

• Простой контроль потока
• Компактная структура
• Химическая устойчивость
• Полупроводниково-совместимые характеристики материалов

Подходит для:

• CMP суспензионные системы
• Химическое оборудование доставки
• Полупроводниковые влажные процессы

Ценность применения

После принятия компонентов для обработки жидкости CJAN PFA производители полупроводникового оборудования могут достичь:

Инженерная рекомендация

Для полировочного оборудования CMP выбор материалов, контактирующих с жидкостью, должен учитывать не только давление и температуру.

К числу важнейших факторов относятся:

• Химическая совместимость
• Материальная чистота
• Контроль ионового загрязнения
• Генерация частиц
• Долгосрочная надежность

Для полупроводниковых систем доставки суспензии CMP, требующих высокой производительности чистоты, Трубы CJAN PFA, фитинги и PFA Plug Valve обеспечивают надежное решение для фторполимеров для передового оборудования для производства пластин.